恩特格里斯公司C·瓦尔德弗里德获国家专利权
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龙图腾网获悉恩特格里斯公司申请的专利氟化钇膜和制备和使用氟化钇膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115485411B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180032124.6，技术领域涉及：C23C16/40；该发明授权氟化钇膜和制备和使用氟化钇膜的方法是由C·瓦尔德弗里德;S·隆戈;P·蒂亚吉设计研发完成，并于2021-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本氟化钇膜和制备和使用氟化钇膜的方法在说明书摘要公布了：本发明描述氟化钇组合物，包括含有氟化钇的沉积膜，例如涂层；制备氟化钇组合物和含有氟化钇的沉积膜涂层的方法；以及具有在表面处含有氟化钇的沉积膜涂层的衬底和包括所述衬底的方法和设备。
本发明授权氟化钇膜和制备和使用氟化钇膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种制备氟化钇的方法，所述方法包含： 沉积氧化铝层至衬底上形成表面， 通过原子层沉积将氧化钇膜沉积至所述表面上，和 使所述氧化钇膜曝露于分子氟源蒸气和高温，以将所述氧化钇膜转化成氟化钇，其中所述分子氟源蒸气通过对氟化聚合物加热衍生，其中所述氧化钇膜的外表面转化成氟化钇YF3，其中所述高温超过摄氏300度，且其中所述方法不包含等离子体。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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