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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于移动基板的设备、沉积设备和处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115443346B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080099975.8，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权用于移动基板的设备、沉积设备和处理系统是由沃尔夫冈·克莱因;拉尔夫·林登贝格;克劳斯·施勒设计研发完成，并于2020-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于移动基板的设备、沉积设备和处理系统在说明书摘要公布了：描述了一种用于材料沉积的设备。该设备包括：具有处理区域的真空腔室；支撑主体，用于将基板保持在该真空腔室内；和掩模系统，被构造为用以遮蔽被支撑在该支撑主体上的该基板。该设备进一步包括：在所述真空腔室内的可移动屏蔽组件；和在所述真空腔室内的静态屏蔽组件，相对于该真空腔室处于固定位置。第一致动器在该支撑主体的处理取向上耦接到该支撑主体、该掩模系统和该可移动屏蔽组件。该第一致动器被构造为用以在第一位置与第二位置之间移动该支撑主体、该掩模系统和该可移动屏蔽组件。

本发明授权用于移动基板的设备、沉积设备和处理系统在权利要求书中公布了：1.一种用于材料沉积的设备100，所述设备包括： 真空腔室110，所述真空腔室具有处理区域，用于处理具有1m2或更大的表面的基板； 支撑主体140，所述支撑主体用于将所述基板保持在所述真空腔室110内； 掩模系统，所述掩模系统被构造为用以遮蔽被支撑在所述支撑主体上的所述基板； 可移动屏蔽组件，所述可移动屏蔽组件在所述真空腔室内； 静态屏蔽组件，所述静态屏蔽组件在所述真空腔室内，相对于所述真空腔室处于固定位置，其中所述可移动屏蔽组件的一端放置在所述掩模系统的前面，并且所述可移动屏蔽组件在所述静态屏蔽组件的后面延伸；以及 第一致动器，所述第一致动器在所述支撑主体的处理取向上耦接到所述支撑主体、所述掩模系统和所述可移动屏蔽组件，所述第一致动器被构造为用以在第一位置与第二位置之间移动所述支撑主体、所述掩模系统和所述可移动屏蔽组件， 其中当所述支撑主体和所述掩模系统在所述第一位置与所述第二位置之间移动时，所述可移动屏蔽组件相对于所述静态屏蔽组件的前面暴露的长度改变； 所述设备进一步包括： 第二致动器，所述第二致动器被构造为用以在装载取向与所述处理取向之间将所述支撑主体移动一个角度。

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