ASML荷兰有限公司M·A·范德凯克霍夫获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114080566B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080049944.1，技术领域涉及：G03F1/82；该发明授权光刻设备是由M·A·范德凯克霍夫;S·阿坎塔;J·H·J·穆尔斯;V·Y·巴宁;S·M·J·詹森斯;A·尼基佩洛维设计研发完成，并于2020-06-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻设备在说明书摘要公布了：一种光刻设备包括：用于支撑衬底的夹持表面，其中夹持表面的属性由至少一个夹持表面参数限定，并且其中夹持表面的属性已被选择为表现出低磨损；夹持设备，用于致动夹持表面与衬底之间的夹持操作，其中夹持操作至少部分地由夹持表面与衬底之间的至少一个界面特性限定；以及处理站，能够操作以根据夹持表面参数和限定衬底的第二属性的至少一个衬底表面参数，对衬底的第一属性施加调整，来优化特定夹持操作的至少一个界面特性。
本发明授权光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻设备，包括： 夹持表面，用于支撑衬底，其中所述夹持表面的属性由至少一个夹持表面参数限定，并且其中所述夹持表面的属性已被选择为表现出低磨损； 夹持设备，用于致动所述夹持表面与所述衬底之间的夹持操作，其中所述夹持操作至少部分地由所述夹持表面与所述衬底之间的至少一个界面特性限定；以及 处理站，能够操作以对所述衬底的第一属性施加调整，来优化特定夹持操作的至少一个界面特性，所述调整根据所述夹持表面参数和限定所述衬底的第二属性的至少一个衬底表面参数， 所述调整包括以下项中的一个或多个： 向所述衬底施加图案特征； 向所述衬底施加表面纹理； 从所述衬底去除颗粒； 向所述衬底施加电荷；以及 降低所述衬底的湿度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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