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龙图腾网获悉深圳市东信高科自动化设备有限公司申请的专利一种大腔体等离子处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120319650B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510799119.8，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种大腔体等离子处理设备是由王照洋设计研发完成，并于2025-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种大腔体等离子处理设备在说明书摘要公布了：本发明涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种大腔体等离子处理设备，包括外壳和舱门，所述舱门转动安装于外壳的内部，所述外壳的内部固定安装有内腔，所述内腔的侧壁开设有抽气孔，所述外壳的外部设有真空抽气泵，所述真空抽气泵的输出端和抽气孔之间固定连接。通过磁块自身的磁场，可以有效提高等离子的活性，从而提高等离子处理的效率，通过磁块的移动，可以提高等离子的均匀性，另外磁块也可以吸附内壳内部的碎屑，通过磁块驱动刮刀二进行震动，使得刮刀二排出收集槽内部的碎屑，同时刮刀二刮除磁块底部的碎屑，避免碎屑影响磁块的磁性，通过刮刀二刮除安装座和刮刀一侧壁的碎屑，使得内壳的内部无需人工进行清理，提高设备的工作效率。

本发明授权一种大腔体等离子处理设备在权利要求书中公布了：1.一种大腔体等离子处理设备，包括外壳（1）和舱门（11），其特征在于：所述舱门（11）转动安装于外壳（1）的内部，所述外壳（1）的内部固定安装有内腔（213），所述内腔（213）的侧壁开设有抽气孔（214），所述外壳（1）的外部设有真空抽气泵（12），所述真空抽气泵（12）的输出端和抽气孔（214）之间固定连接，所述内腔（213）的内部固定安装有内壳（22），所述内壳（22）的内部活动安装有强化组件，所述强化组件包括输送带（222）和若干个磁块（224），所述输送带（222）转动安装于内壳（22）的内部，所述输送带（222）的侧壁一体成型有若干个均匀分布的安装座（225），所述磁块（224）和安装座（225）一一对应，所述磁块（224）滑动安装于安装座（225）的侧壁； 所述内壳（22）的内部活动安装有清理组件，所述清理组件包括刮刀二（24）和若干个刮刀一（23），所述刮刀一（23）和安装座（225）一一对应，所述刮刀一（23）滑动安装于安装座（225）的内部，所述刮刀一（23）位于磁块（224）的侧壁，所述刮刀二（24）位于输送带（222）的内侧，所述刮刀二（24）转动安装于内壳（22）的侧壁； 所述内壳（22）的内部活动安装有放置组件，所述放置组件用于放置需要加工的工件。

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