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龙图腾网获悉常州同泰高导新材料有限公司申请的专利一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120259282B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510727166.1，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法及系统是由顾业成;窦赢;王会杰;陆倩文;李栋;顾力侥设计研发完成，并于2025-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及铜杆毛刺检测技术领域，尤其涉及一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法及系统，方法包括：首先通过确定铜杆移动方向来连续采集铜杆表面图像，并通过采集的电解液物理属性对铜杆表面图像进行动态特征解析，获取电解液干扰区域，根据电解液干扰区域分别与若干所述铜杆表面图像进行对比识别，获取毛刺候选区，根据建立的铜杆抛光数据库对毛刺候选区进行筛选，获取毛刺检测结果。通过本发明，有效解决了毛刺检测容易受到人为因素的干扰，从而无法提供高效且稳定的检测结果的问题，提升了毛刺检测的精度和可靠性，从而显著提高了铜杆电解抛光的检测效率和产品质量。

本发明授权一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种铜杆电解抛光的毛刺检测方法，其特征在于，所述方法包括： 确定铜杆移动方向，根据所述铜杆移动方向连续采集若干铜杆表面图像，若干所述铜杆表面图像为多帧时序图像； 采集电解液物理属性，根据所述电解液物理属性对相邻帧的所述铜杆表面图像进行动态特征解析，识别并筛选电解液干扰区域，包括： 对相邻帧的所述铜杆表面图像进行预处理，对预处理后的所述铜杆表面图像进行像素点位移计算，获取原始像素位移； 根据所述铜杆移动方向采集铜杆位移数据，并根据所述铜杆位移数据对所述原始像素位移进行运动补偿，获取电解液位移； 根据所述电解液物理属性对所述电解液位移进行验证，生成干扰标记矩阵； 对所述干扰标记矩阵进行拓扑关系重构，获取电解液干扰区域，包括： 将所述干扰标记矩阵中相邻的干扰标记点合并为连续区域，获取初始干扰区域集合； 对所述初始干扰区域集合中的每个初始干扰区域孔洞进行填充，并对区域边缘进行平滑处理，生成优化干扰区域集合，所述初始干扰区域孔洞为初始干扰区域内的非连续空白区域； 根据所述电解液物理属性设定干扰面积阈值，并根据所述干扰面积阈值对所述优化干扰区域集合进行剔除； 对剔除后的所述优化干扰区域集合进行液体形态验证，将符合电解液流动特性的区域标记为电解液干扰区域； 根据所述电解液干扰区域分别与若干所述铜杆表面图像进行对比识别，获取毛刺候选区，包括： 根据所述铜杆表面图像将所述电解液干扰区域进行标记并去除，获取有效检测区； 获取所述铜杆表面图像的光谱成像数据，根据所述光谱成像数据计算并获取所述有效检测区的每一像素的光学波段响应差值，所述光学波段响应差值表示像素点对于两不同波段反射率的差值； 根据所述光学波段响应差值确定差值方向，并根据所述差值方向标记潜在毛刺像素； 对所述潜在毛刺像素进行边界闭合，根据边界闭合后的所述毛刺像素进行物理特征验证，并根据物理特征验证结果标记毛刺候选区； 建立铜杆抛光数据库，根据所述铜杆抛光数据库提取毛刺静态特征，并根据所述毛刺静态特征对所述毛刺候选区进行筛选，获取毛刺检测结果。

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