华能伊敏煤电有限责任公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司孙国辉获国家专利权
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龙图腾网获悉华能伊敏煤电有限责任公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司申请的专利电极及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119685864B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411792310.1，技术领域涉及：C25B11/091；该发明授权电极及其制备方法和应用是由孙国辉;郭伟琦;王强;任志博;贾莉;姜楠;靳权成;赵力伟;郄占宇;赵丽敏;刘霞;苏卫东;吴显钢;秦继伟;董帅;石永利;王金意;闫旭鹏;卢启辰设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本电极及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种电极及其制备方法和应用。该电极包括镍基材和包覆在镍基材表面的金属层，金属层的材料包括金属镍和高熵合金，金属层的远离镍基材的表面分布有多个刻蚀凹槽，刻蚀凹槽在金属层表面的覆盖度为50～100％。金属层表面刻蚀凹槽的存在有助于增加电极的比表面积，为电解水反应提供了更多的活性位点。高熵合金由于其独特的晶格结构，拥有丰富的活性位点，而刻蚀凹槽的存在进一步增加了这些活性位点的数量，从而有助于提高电极的催化活性。并且刻蚀凹槽结构有利于氢气和氧气气泡的形成和脱离，减少了气泡在电极表面的滞留时间，优化了气泡的传质过程，从而有助于提高水电解的效率。
本发明授权电极及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种电解水的电极，其特征在于，所述电解水的电极包括镍基材和包覆在所述镍基材表面的金属层，所述金属层的材料包括金属镍和高熵合金，所述金属层的远离所述镍基材的表面分布有多个刻蚀凹槽，所述刻蚀凹槽在金属层表面的覆盖度为50~100%；所述刻蚀凹槽的宽度为20~50nm，深度为1~20nm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华能伊敏煤电有限责任公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司，其通讯地址为：021134 内蒙古自治区呼伦贝尔市鄂温克旗伊敏河镇伊敏电厂；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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