华东理工大学叶光华获国家专利权
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龙图腾网获悉华东理工大学申请的专利具有特殊形状的湿法刻蚀槽及其在湿法刻蚀设备中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119673817B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411708405.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权具有特殊形状的湿法刻蚀槽及其在湿法刻蚀设备中的应用是由叶光华;阮晋;邓庆航;周兴贵设计研发完成，并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有特殊形状的湿法刻蚀槽及其在湿法刻蚀设备中的应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有特殊形状的湿法刻蚀槽及其在湿法刻蚀设备中的应用，所述槽式湿法刻蚀设备包括刻蚀槽，用于承载晶圆的晶圆支架，以及用于向所述刻蚀槽内注入刻蚀液的进液管道；所述刻蚀槽的形状为对长方体刻蚀槽的顶部和底部的前后两侧进行对称修剪变形后获得的形状，变形后的具有特殊形状的所述刻蚀槽的长度由竖直方向的中部向顶端和底端逐渐减小。本发明可以提高晶圆表面的刻蚀液的流速，改善流场分布，从而提高湿法刻蚀的均匀性，提高产品良率。
本发明授权具有特殊形状的湿法刻蚀槽及其在湿法刻蚀设备中的应用在权利要求书中公布了：1.一种具有特殊形状的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述刻蚀槽内设有用于放置晶圆的晶圆支架，所述具有特殊形状的刻蚀槽的形状是，对长方体刻蚀槽的前后两侧进行对称修剪变形后获得的形状；所述长方体刻蚀槽的前后方向水平长度为1.2D，沿所述晶圆支架长度方向的刻蚀槽宽度为1.7D、高度为1.7D，D为晶圆的直径； 修剪变形后的所述具有特殊形状的刻蚀槽的形状为：八面体，其平行于所述晶圆方向的竖直截面为六边形；变形后的所述刻蚀槽的宽度值和高度值不变，均为1.7D，竖直方向上，长度值由中部的1.2D分别向顶端和底端逐渐减小，顶端和底端的水平长度值为1.2D-2a，特征参数a＝0.16D～0.25D。
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