恒美光电股份有限公司肖为伟获国家专利权
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龙图腾网获悉恒美光电股份有限公司申请的专利一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223243912U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422626984.6，技术领域涉及：G01M11/02；该实用新型一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置是由肖为伟;施明志;张良宝;简大千;张均铭;邢亚设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了偏光片检测领域的一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置，旨在解决现有技术中圆偏光片正常直交状态下为非黑态，直交模式下也无法检出该类缺陷的问题，包括圆偏光片，由线偏光片和特定相位差膜组成，安装在检测台上，线光源模块，设置在圆偏光片的一侧；反射板，设置在圆偏光片的另一侧；相机模块，用于将通过反射板反射后的穿透圆偏光片的光线转变为电子信号图像，根据圆偏光片的防反射原理，通过光线入射到圆偏光片上，无异常的圆偏光片防反射，光线不会被相机模块接收，而有异常的地方入射的光线会经过反射板后再次穿透圆偏光片被相机接收，从而检测出内部异常。
本实用新型一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置在权利要求书中公布了：1.一种圆偏光片的反射模式缺陷检测装置，其特征在于，包括： 圆偏光片，由线偏光片和特定相位差膜组成，安装在检测台上，通过所述检测台调整位置，适应检测； 线光源模块，设置在圆偏光片的一侧，用于发射出强度高，亮度均一的光线穿透所述圆偏光片； 反射板，设置在圆偏光片的另一侧，用于将穿透圆偏光片的光线反射到所述圆偏光片上，继续穿透所述圆偏光片； 相机模块，用于将通过反射板反射后的穿透圆偏光片的光线转变为电子信号图像； 其中，所述特定相位差膜包括光学薄膜延伸制得和配向涂布液晶制得中的任一种，该特定相位差膜对于入射波长λ的面内的相位差值为λ4。
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