苏州同冠微电子有限公司李承浩获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州同冠微电子有限公司申请的专利一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223235979U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422426857.1，技术领域涉及：B24B29/02；该实用新型一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置是由李承浩;缪新海;王炜;吴耀辉;尹锺晚;金恩泽设计研发完成，并于2024-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置，包括工作台、工作台的下端固定连接有起到储物作用的储液箱及工作台的上端左右对称的螺栓连接有电动伸缩杆；所述储液箱的内部以及上侧分别设置有收集结构和限位结构，其中收集结构包括有支撑板、过滤网、密封板和进液孔，限位结构包括有连接板、限位槽、连接口、腔体、抽气管和抽气泵；所述电动伸缩杆的上端分别固定连接在第二防护框的左右两端，且第二防护框的内部呈等间距的转动连接有连接轴。该防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置，防止抛光液飞溅，便于收集抛光液循环利用，而且方便对半导体进行限位，同时便于批量抛光半导体。
本实用新型一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置在权利要求书中公布了：1.一种防止抛光液飞溅的半导体加工用抛光装置，包括工作台1、工作台1的下端固定连接有起到储物作用的储液箱2及工作台1的上端左右对称的螺栓连接有电动伸缩杆11； 其特征在于，还包括： 所述储液箱2的内部以及上侧分别设置有收集结构和限位结构，其中收集结构包括有支撑板17、过滤网18、密封板19和进液孔20，限位结构包括有连接板4、限位槽5、连接口6、腔体7、抽气管8和抽气泵9； 所述电动伸缩杆11的上端分别固定连接在第二防护框10的左右两端，且第二防护框10的内部呈等间距的转动连接有连接轴12，并且连接轴12的上端固定连接有蜗轮14。
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