中芯南方集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司孙华骏获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯南方集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利一种离子注入设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223245557U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422218682.5，技术领域涉及：H01J37/317；该实用新型一种离子注入设备是由孙华骏设计研发完成，并于2024-09-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种离子注入设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种离子注入设备，包括：反应腔，所述反应腔包括底板，所述底板上设置有贯穿所述底板通孔；第一狭缝板，与所述底板的外壁连接并覆盖所述通孔，所述第一狭缝板上具有贯穿所述第一狭缝板的第一狭缝，所述第一狭缝的长宽比为73‑76：5.5‑6.5；以及第二狭缝板，所述第二狭缝板设置在所述反应腔外，与所述第一狭缝板相对设置，所述第二狭缝板上具有贯穿所述第二狭缝板的第二狭缝，所述第二狭缝与所述第一狭缝正对，所述第二狭缝的长宽比为88‑92：6.5‑7.5，所述第二狭缝的面积大于所述第一狭缝的面积，所述反应腔的离子依次通过所述第一狭缝和所述第二狭缝后进行加速。本申请提供的离子注入设备可以提到离子注入过程中对离子的利用率。
本实用新型一种离子注入设备在权利要求书中公布了：1.一种离子注入设备，其特征在于，包括： 反应腔，所述反应腔包括底板，所述底板上设置有贯穿所述底板通孔； 第一狭缝板，与所述底板的外壁连接并覆盖所述通孔，所述第一狭缝板上具有贯穿所述第一狭缝板的第一狭缝，所述第一狭缝的长宽比为73-76：5.5-6.5；以及 第二狭缝板，所述第二狭缝板设置在所述反应腔外，与所述第一狭缝板相对设置，所述第二狭缝板上具有贯穿所述第二狭缝板的第二狭缝，所述第二狭缝与所述第一狭缝正对，所述第二狭缝的长宽比为88-92：6.5-7.5，所述第二狭缝的面积大于所述第一狭缝的面积，所述反应腔的离子依次通过所述第一狭缝和所述第二狭缝后进行加速。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯南方集成电路制造有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，其通讯地址为：200120 上海市浦东新区自由贸易试验区张江路18号3号楼5楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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