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龙图腾网获悉天津大学申请的专利一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118905731B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411248728.6，技术领域涉及：B24B1/00；该发明授权一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法是由曹中臣;张洋;梁之栋设计研发完成，并于2024-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法在说明书摘要公布了：一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法，它属于精密超精密加工技术领域。本发明要解决现有硬脆陶瓷材料高精度加工难以实现效率与精度的平衡，生产周期长。方法：先配制光催化纳米抛光液，然后在紫外光照射下，利用光催化纳米抛光液对硬脆陶瓷材料抛光。本发明用于硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光。

本发明授权一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法，其特征在于它是按以下步骤进行的： 按质量百分数称取1%~5%的纳米磨粒、0.1%~0.2%的纳米光催化颗粒、5%~10%的氧化剂、0.1%~0.2%的纳米氧化石墨烯、0.1%~0.8%的分散剂及余量去离子水并混合，然后加入pH调节剂至pH为3~11，最后依次通过机械搅拌与超声分散混合均匀，得到光催化纳米抛光液；所述的纳米磨粒的平均粒径为50nm~500nm；所述的纳米光催化颗粒的平均粒径为10nm~100nm；所述的纳米氧化石墨烯的片层直径为0.2μm~50μm，层数为1层~2层，单层厚度为0.3nm~3nm；所述的纳米磨粒为金刚石；所述的氧化剂为过氧化氢； 在紫外光波长为300nm~400nm、紫外光光照强度为1000mWcm2~2000mWcm2、子孔径抛光盘转速为200rpm~1200rpm、压力为35kPa~65kPa及进给速度为0.5mms~1.5mms的条件下，利用抛光垫及光催化纳米抛光液对硬脆陶瓷材料抛光1次~2次，即完成硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法； 在紫外光波长为300nm~400nm、紫外光光照强度为1000mWcm2~2000mWcm2、全口径抛光盘转速为60rpm~120rpm及压力为35kPa~65kPa的条件下，利用抛光垫及光催化纳米抛光液对硬脆陶瓷材料抛光10min~20min，即完成硬脆陶瓷材料高精度高效率抛光方法； 所述的光催化纳米抛光液的供给流量为0.2Lmin~0.5Lmin。

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