胜科纳米(苏州)股份有限公司吴梅花获国家专利权
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龙图腾网获悉胜科纳米(苏州)股份有限公司申请的专利芯片研磨清洗装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223236003U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422017447.1,技术领域涉及:B24B37/04;该实用新型芯片研磨清洗装置是由吴梅花;陈超;陈隆基;华佑南;李晓旻设计研发完成,并于2024-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本芯片研磨清洗装置在说明书摘要公布了:本实用新型涉及芯片研磨清洗技术领域,尤其涉及一种芯片研磨清洗装置。该芯片研磨清洗装置包括底座、研磨盘、第一排水孔和沉淀过滤盘。其中,底座上设置有水槽。研磨盘设置在水槽内,研磨盘被配置为研磨芯片。第一排水孔设置在水槽的底部。沉淀过滤盘套设于研磨盘上,且沉淀过滤盘的外壁与水槽的内壁之间设置有间隙;沉淀过滤盘上开设有第二排水孔,第二排水孔通过间隙与第一排水孔连通;且第二排水孔设置于沉淀过滤盘的侧壁上。该芯片研磨清洗装置解决了现有技术中芯片在研磨过程中的丢失问题,提高芯片在研磨过程中的安全性,达到节约成本的目的。
本实用新型芯片研磨清洗装置在权利要求书中公布了:1.芯片研磨清洗装置,其特征在于,包括: 底座100,所述底座100上设置有水槽200, 研磨盘300,所述研磨盘300设置在所述水槽200内,所述研磨盘300被配置为研磨芯片; 第一排水孔210,所述第一排水孔210设置在所述水槽200的底部; 沉淀过滤盘400,所述沉淀过滤盘400套设于所述研磨盘300上,且所述沉淀过滤盘400的外壁与所述水槽200的内壁之间设置有间隙500;所述沉淀过滤盘400上开设有第二排水孔430,所述第二排水孔430通过所述间隙500与所述第一排水孔210连通;且所述第二排水孔430设置于所述沉淀过滤盘400的侧壁上。
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