武汉理工大学肖生强获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂及其制备方法、应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116903618B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310794195.0，技术领域涉及：C07D471/06；该发明授权含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂及其制备方法、应用是由肖生强;王维;李成龙;詹春设计研发完成，并于2023-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂及其制备方法、应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂及其制备方法、应用。该掺杂剂的分子结构如下所示：其中R1、R2、R3选自氢、取代或未取代的C1‑C10直链烷基、取代或未取代的C3‑C20支链烷基中的至少一种，优选为R1为甲基、R2为氢或者烷氧基、R3为氢。使用时直接将该掺杂剂、n型有机半导体材料加入到有机溶剂中共混，或者以含有该掺杂剂的有机溶剂对利用n型有机半导体材料制备的组件进行浸润，就能实现n型有机半导体的掺杂并改善其性能。实践结果表明，该掺杂剂的掺杂效率较高，掺杂后的n型有机半导体材料的性能更好，在钙钛矿太阳能电池等方面具有较好的应用前景。
本发明授权含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂及其制备方法、应用在权利要求书中公布了：1.含有久洛利定取代的苯并咪唑n型掺杂剂，其特征在于该掺杂剂的分子结构如下所示： 其中R1为甲基，R2为氢，R3为氢。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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