深圳市通用测试系统有限公司漆一宏获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市通用测试系统有限公司申请的专利球面近场测量方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116136554B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310305063.7，技术领域涉及：G01R29/10；该发明授权球面近场测量方法和系统是由漆一宏;于伟;蔡张华;吴济宇设计研发完成，并于2023-03-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本球面近场测量方法和系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种球面近场测量方法和系统，本发明的球面近场测量方法采用了渐进逼近式的测量方法并结合数值插值方法，实现了在保证测量精度的前提下减少了面的采样点，大大提高了测量效率，缩短了测量时间，缓解了现有的球面近场测量方法采样点数量较多，导致测量时间长、测量效率低的技术问题。
本发明授权球面近场测量方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种球面近场测量方法，其特征在于，包括： 对被测天线进行第一采样，并对得到的第一采样数据进行第一插值处理，以及对第一插值处理后的采样数据进行计算，得到所述被测天线的第一远场辐射方向图，其中，所述第一采样中，φ面的采样间隔为第一采样间隔，θ面的采样间隔为根据所述被测天线的频率和尺寸确定的，且所述第一采样间隔大于所述θ面的采样间隔； 对所述被测天线进行第二采样，并对得到的第二采样数据和所述第一采样数据进行第二插值处理，以及对第二插值处理后的采样数据进行计算，得到所述被测天线的第二远场辐射方向图，其中，所述第二采样为对上一采样的φ面加密补充采样； 判断相邻两次的远场辐射方向图是否满足预设的测量精度； 若满足，则将所述第一采样间隔或对φ面加密补充采样后对应的采样间隔作为φ面的目标采样间隔，且所述第一远场辐射方向图或所述第二远场辐射方向图作为所述被测天线的天线方向图； 若不满足，则将所述第二采样数据和所述第一采样数据作为所述第一采样数据，返回对所述被测天线进行第二采样的步骤，直至相邻两次的远场辐射方向图满足所述预设的测量精度为止，并将所述相邻两次的远场辐射方向图对应的采样间隔中的任一采样间隔作为φ面的目标采样间隔，所述相邻两次的远场辐射方向图中的任一远场辐射方向图作为所述被测天线的天线方向图。
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