惠柏新材料科技(上海)股份有限公司黄培轩获国家专利权
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龙图腾网获悉惠柏新材料科技(上海)股份有限公司申请的专利一种量子点无机封装色转换片及制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115513359B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211121894.0，技术领域涉及：H10H20/854；该发明授权一种量子点无机封装色转换片及制造方法是由黄培轩;刘义刚设计研发完成，并于2022-09-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种量子点无机封装色转换片及制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种量子点无机封装色转换片及制备方法，包括：无机玻璃基板和硅基板；硅基板的出光面和无机玻璃基板阳极键合，硅基板的入光面刻蚀有多个像素凹槽，像素凹槽内填充有量子点色转换材料。本发明采用无机玻璃基板对量子点色转换材料进行封装，能够有效隔绝量子点色转换材料和外界空气的接触，使得量子点色转换材料减少因为空气中的水汽和氧气导致自身内部量子点颗粒衰落、甚至失活的问题，从而大大提高了量子点色转换材料的使用寿命；本发明采用硅基板作为挡墙，可以有效防止一像素所发出的部分光线会进入相邻像素的干扰现象，又可在同像素内增加折射提高光的有效利用率，也可避免不同像素间发生再激发情形。
本发明授权一种量子点无机封装色转换片及制造方法在权利要求书中公布了：1.一种量子点无机封装色转换片，其特征在于，包括：无机玻璃基板和硅基板； 所述硅基板的出光面和无机玻璃基板阳极键合； 所述硅基板的入光面刻蚀有多个像素凹槽，所述像素凹槽的刻蚀方式包括干法、湿法，像素凹槽的深度为硅基板厚度，利用硅基板材料形成像素间的光学隔离； 所述像素凹槽内填充有量子点色转换材料。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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