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龙图腾网获悉华南师范大学申请的专利利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115356895B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210868589.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法是由吴立军;王浩;朱彦霖;李强;陈俪赟;魏亚壮;刘佳鑫;陈浩瀚;黄巍巍设计研发完成，并于2022-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法，该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机；分光装置将入射到正负性可调光刻胶样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上；油浸物镜将激光束聚焦在样品上，一步制备多种形状的微纳结构，然后采用显影液进行显影或采用除胶液进行除胶。本发明通过简单地用连续激光直写来制造一种正性和负性共存的新型聚合物结构，可以一步完成多种聚合物微纳结构的制备，有助于低成本设计亚微米级复杂图案，具有良好的发展前景。

本发明授权利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统，其特征在于，包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、第三透镜、CCD相机和计算机； 所述正负性可调光刻胶样品安装在三维高精度纳米定位平移台上；所述正负性可调光刻胶样品包括基底和涂覆在基底上的S1813正性光刻胶；所述S1813正性光刻胶包括甲酚酚醛树脂、二氮萘醌光敏化合物和溶剂； 所述连续激光器用于发出连续波激光束； 所述扩束系统用于对连续波激光束进行扩束； 所述衰减片用于控制扩束后的连续波激光束的能量； 所述半波片用于控制连续波激光束的偏振方向； 所述光快门用于控制连续波激光束的通光量； 所述分光装置用于将入射进来的连续波激光束经油浸物镜聚焦到正负性可调光刻胶样品表面，入射到正负性可调光刻胶样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上； 所述油浸物镜用于将激光束聚焦在正负性可调光刻胶样品上，在适当的激光通量和曝光时间的条件下，一步制备多种形状的微纳结构，然后采用显影液进行显影或采用除胶液进行除胶；所述多种形状的微纳结构包括反环形结构、柱形结构、光滑甜甜圈结构、花形甜甜圈结构以及花形甜甜圈+圆环结构； 所述第三透镜用于将激光束聚焦在CCD相机上； 所述CCD相机用于实时监测加工过程，观察光束的曝光情况； 所述计算机用于控制三维高精度纳米定位平移台和CCD相机； 在入射光波长接近于DNQ吸收带边缘的情况下，DNQ向ICA的转换相对较差；外光束的阈值能量仅足以使DNQNR转化为ICANR，在此过程中能观察到正光刻胶的行为；光束中心区域紧聚焦光斑以达到ICANR光化学转换的阈值能量，此过程中能观察到负光刻胶的行为；未曝光区域形成聚合物薄膜。

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