TCL华星光电技术有限公司孟小龙获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL华星光电技术有限公司申请的专利显示面板的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114975843B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210589869.9，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权显示面板的制作方法是由孟小龙设计研发完成，并于2022-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板的制作方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种显示面板的制作方法，该显示面板的制作方法包括：提供一基底，包括提供一基板，以及层叠设置在基板上的阳极图案和光刻胶层，其中，在垂直于基板的方向上，光刻胶层的正投影位于阳极图案的正投影内；在基底上形成像素定义层；对像素定义层进行图案化处理，在像素定义层上开设对应于光刻胶层的开孔，并且去除开孔内的光刻胶层，以暴露阳极图案，其中，开孔包括靠近基板一侧的开口，在垂直于基板的方向上，开口的面积等于光刻胶层的面积；本申请通过在制作像素定义层前，在阳极图案上设置光刻胶层，从而使在制作像素定义层开孔的过程中，即使有部分像素定义层材料残留于开孔内，也可以在去除光刻胶层时一并去除，提高了显示面板的显示效果。
本发明授权显示面板的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤： 提供一基底，包括提供一基板，以及层叠设置在所述基板上的阳极图案和光刻胶层，对所述光刻胶层进行图案化处理，在垂直于所述基板的方向上，所述光刻胶层的正投影位于所述阳极图案的正投影内，其中，所述对所述光刻胶层进行图案化处理的步骤包括：对所述光刻胶层进行曝光处理，沿平行于所述光刻胶层的水平面方向，在所述光刻胶层的周侧形成台阶部；对所述光刻胶层进行刻蚀处理，去除所述台阶部，在所述光刻胶层的周侧暴露部分所述阳极图案； 在所述基底上形成像素定义层； 对所述像素定义层进行图案化处理，在所述像素定义层上开设对应于所述光刻胶层的开孔，并且去除所述开孔内的所述光刻胶层，以暴露所述阳极图案，其中，所述开孔包括靠近所述基板一侧的开口，所述光刻胶层在垂直于所述基板方向上的正投影与所述开口重叠； 在所述阳极图案上依次形成发光功能层、阴极层和封装层。
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