京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司何帆获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示面板及其制作方法、以及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114725176B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210372186.8,技术领域涉及:H10K59/126;该发明授权显示面板及其制作方法、以及显示装置是由何帆;仝可蒙;樊聪;董向丹设计研发完成,并于2022-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及其制作方法、以及显示装置在说明书摘要公布了:本发明实施例公开一种显示面板及其制作方法、以及显示装置。在一具体实施方式中,显示面板包括:包括显示区和非显示区,显示区包括多个像素单元,像素单元包括第一电极,非显示区包括:形成在衬底上的栅极驱动单元;形成在栅极驱动单元上的信号屏蔽层;形成在信号屏蔽层上的导电层,导电层与第一电极同层设置;形成在导电层上的阴极层;以及形成在阴极层上的触控信号走线,其中,信号屏蔽层在衬底上的正投影至少部分覆盖栅极驱动单元在衬底上的正投影。该实施方式通过在非显示区中栅极驱动单元与导电层之间设置信号屏蔽层,使得能够有效屏蔽触控信号线对栅极驱动单元的信号干扰,提升显示品质,具有广阔的应用前景。
本发明授权显示面板及其制作方法、以及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示面板,包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,所述显示区包括多个像素单元,所述像素单元包括第一电极,其特征在于,所述非显示区包括: 形成在衬底上的栅极驱动单元; 形成在所述栅极驱动单元上的信号屏蔽层; 形成在所述信号屏蔽层上的导电层,所述导电层与所述第一电极同层设置; 形成在所述导电层上的阴极层;以及 形成在所述阴极层上的触控信号走线, 其中,所述信号屏蔽层在所述衬底上的正投影至少部分覆盖所述栅极驱动单元在所述衬底上的正投影, 非显示区还包括: 围绕所述显示区和所述栅极驱动单元的低电平信号线,与所述栅极驱动单元的源漏层同层设置; 形成在所述低电平信号线和所述信号屏蔽层之间的第一缓冲层,包括至少一个第一过孔; 形成在所述信号屏蔽层和所述导电层之间的第二缓冲层,包括至少一个第二过孔;以及 形成在所述导电层与所述阴极层之间的第三缓冲层,包括至少一个第三过孔,其中, 所述第一过孔在所述衬底上的正投影落入所述低电平信号线在所述衬底上的正投影中,所述信号屏蔽层覆盖所述第一过孔,所述第二过孔在所述衬底上的正投影落入所述信号屏蔽层在所述衬底上的正投影中,所述导电层覆盖所述第二过孔,所述第三过孔在所述衬底上的正投影落入所述导电层在所述衬底上的正投影中,所述阴极层覆盖所述第三过孔。
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