芝浦机械电子装置株式会社黒岩杏太获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115116887B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210055954.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法是由黒岩杏太;望月洋辅;今冈裕一;小林宪明设计研发完成，并于2022-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够充分去除处于腔室的内部的异物的有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法。实施方式的有机膜形成装置包括：腔室，具有搬入或搬出工件的开口，能够维持较大气压进一步经减压的气体环境；门，能够使所述腔室的开口开闭；排气部，能够对所述腔室的内部进行排气；支撑部，设置于所述腔室的内部，能够支撑所述工件；加热部，设置于所述腔室的内部，能够将所述工件加热；以及至少一个喷嘴，设置于所述腔室的内部，能够向所述腔室的开口供给清洁气体。
本发明授权有机膜形成装置、及有机膜形成装置的清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种有机膜形成装置，包括： 腔室，具有搬入或搬出工件的开口，能够维持较大气压进一步经减压的气体环境； 门，能够使所述腔室的开口开闭； 排气部，能够对所述腔室内部进行排气； 支撑部，设置于所述腔室的内部，能够支撑所述工件； 加热部，设置于所述腔室的内部，能够将所述工件加热； 至少一个喷嘴，设置于所述腔室的内部，能够向所述腔室的开口供给清洁气体； 气体控制部，连接于所述喷嘴，能够控制所述清洁气体的供给与供给的停止；以及 控制器，能够控制所述气体控制部， 在将所述腔室的开口开放时，所述控制器控制所述气体控制部，而使所述清洁气体从所述喷嘴向所述腔室的开口流动。
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