中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司严中稳获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116360203B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111630338.1，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法是由严中稳;刘娜设计研发完成，并于2021-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干目标图形；获取初始版图，所述初始版图包括与若干目标图形对应的若干初始图形；对所述初始版图进行曝光处理，获取初始曝光版图；对比所述初始曝光版图与所述目标版图，获取所述初始曝光版图中的若干缺陷，并获取所述若干缺陷对应的若干边缘放置误差；根据所述若干边缘放置误差，在若干初始图形中获取若干待偏移图形；基于各待偏移图形对应的若干边缘放置误差，偏移各待偏移图形，形成初始修正版图；对所述初始修正版图进行若干次局部光学邻近修正，获取修正版图，以减少局部光学邻近修正中的EPE缺陷，提高修正版图的图形精度。
本发明授权光学邻近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供目标版图，所述目标版图包括若干目标图形； 获取初始版图，所述初始版图包括与若干目标图形对应的若干初始图形； 对所述初始版图进行曝光处理，获取初始曝光版图； 对比所述初始曝光版图与所述目标版图，获取所述初始曝光版图中的若干缺陷，并获取所述若干缺陷对应的若干边缘放置误差； 根据所述若干边缘放置误差，在若干初始图形中获取若干待偏移图形； 基于各待偏移图形对应的若干边缘放置误差，偏移各待偏移图形，形成初始修正版图； 对所述初始修正版图进行若干次局部光学邻近修正，获取修正版图； 其中，根据所述若干边缘放置误差，在若干初始图形中获取若干待偏移图形的方法包括：根据与所述若干缺陷对应的若干边缘放置误差，在若干初始图形中获取对应的若干待修正线段；在若干待修正线段中，获取满足预设条件的若干第一指定线段、以及与每个第一指定线段对应的第二指定线段；将若干第一指定线段和若干第二指定线段所在的若干初始图形，作为若干待偏移图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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