中国科学院理化技术研究所王京霞获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院理化技术研究所申请的专利氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116184731B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111434839.2，技术领域涉及：G02F1/137；该发明授权氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用是由王京霞;孟凡姝;郑成林;江雷设计研发完成，并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用。在本发明中，使用氟硅烷处理蓝相液晶聚合物模板薄膜，能有效降低蓝相液晶聚合物模板薄膜的表面能，抑制打印后墨水液滴的横向铺展，并延迟墨水纵向渗透，防止在墨水打印时发生液滴聚并而造成颜色不均匀和边界模糊的问题。本发明制备的蓝相液晶光子纸张材料可以提高打印精度，使其打印单点最小达到51±14μm，并可以通过调整打印的墨水体积，实现清晰打印多色图案。本发明原料来源广泛，疏水处理过程简便易行，具有很好的应用性。
本发明授权氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用在权利要求书中公布了：1.氟硅烷在制备蓝相液晶光子纸张材料中的应用，其特征在于，采用氟硅烷处理蓝相液晶聚合物模板薄膜，得到蓝相液晶光子纸张材料； 采用氟硅烷处理蓝相液晶聚合物模板薄膜是将蓝相液晶聚合物模板薄膜放在滴加有氟硅烷的真空干燥器中，抽真空，处理一段时间即得； 所述的处理温度为20~80℃；所述处理时间为0.5~8h； 所述氟硅烷为1H,1H,2H,2H-全氟辛基三甲氧基硅烷； 所述氟硅烷的用量与处理的蓝相液晶聚合物模板薄膜上表面积的比例为0.3~4μL:1cm2。
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