上海精测半导体技术有限公司刘骊松获国家专利权
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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114240850B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111412501.7，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法是由刘骊松;张旭;黄涛;夏霞设计研发完成，并于2021-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法，包括:在晶圆上采集模板图像，在所述模板图像中提取模板；按预设方向移动晶圆并采集目标图像，根据所述模板在所述目标图像中进行模板匹配以获得匹配位置，获取所述模板和匹配位置之间的目标位移，将所述目标图像作为所述模板图像，进行下一次的所述提取模板和模板匹配以获得另一所述目标位移，当满足预设停止条件时停止采集图像和提取模板；根据累积的所述目标位移和晶圆实际位移获取所述实际像素尺寸。本发明提供了一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法，进行多次匹配，可以提高获取实际像素尺寸的速度、精度和可靠性。
本发明授权一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束扫描成像设备实际像素尺寸的获取方法，其特征在于，包括: 在晶圆上采集模板图像，在所述模板图像中提取模板； 按预设方向移动晶圆并采集目标图像，根据所述模板在所述目标图像中进行模板匹配以获得匹配位置，获取所述模板和匹配位置之间的目标位移，将所述目标图像作为所述模板图像，进行下一次的所述提取模板和模板匹配以获得另一所述目标位移，当满足预设停止条件时停止采集图像和提取模板； 根据累积的部分或者全部所述目标位移和晶圆实际位移获取所述实际像素尺寸。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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