杭州鸿星电子有限公司石胜雄获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州鸿星电子有限公司申请的专利梳状金属膜的AT切温补晶振获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114070242B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111303988.5，技术领域涉及：H03H9/02；该发明授权梳状金属膜的AT切温补晶振是由石胜雄;王武江;翁泽宇设计研发完成，并于2021-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本梳状金属膜的AT切温补晶振在说明书摘要公布了：梳状金属膜的温补晶振，包括长方体的石英晶片，石英晶片的上下表面呈矩形，并在上表面有两个矩形凸台；在石英晶片的上下表面镀有中心电极，中心电极的一角有延伸层；梳状金属膜的两端分别放置在石英晶片的上表面的两个矩形凸台上，梳状金属膜与中心电极脱离；梳状金属膜由多根金属条等间距排列构成，多根金属条关于y轴对称布置，且金属条的长度方向与矩形石英晶片的x轴方向一致且中点应在z轴上；金属条的材料的热膨胀系数大于石英晶片1的热膨胀系数。本发明的梳状金属膜没有增加电极区域的整体质量，不会增加这一区域的负载效应。且采用梳状结构能够减小补偿条施加在z方向上的力，从而降低对晶振工作模态的影响或者避免出现其它的寄生模态。
本发明授权梳状金属膜的AT切温补晶振在权利要求书中公布了：1.梳状金属膜的温补晶振，包括石英晶片1，其特征在于：所述的石英晶片1为长方体，石英晶片1的上下表面呈矩形，并在上表面有两个矩形凸台；在石英晶片1的上、下表面分别镀有中心电极2，中心电极2的一角有延伸层3，延伸层3的末端连接胶点5，胶点5是中心电极2的引出端；将石英晶片1的上表面的纵轴方向设为X轴，横轴方向设为Z轴，将垂直于石英晶片1的上表面且经过所述的X轴和Z轴的交点的方向设为Y轴；上、下表面的中心电极2在Y轴方向的投影重合，上、下表面的中心电极2的延伸层3分别偏向X轴的两侧；梳状金属膜4沿X轴设置，梳状金属膜4的两端分别放置在石英晶片1的上表面的两个矩形凸台上，梳状金属膜4与中心电极2脱离；梳状金属膜4由多根金属条等间距排列构成，多根金属条关于y轴对称布置，且金属条的长度方向与矩形石英晶片的x轴方向一致且中点应在z轴上；所述的金属条的材料的热膨胀系数大于石英晶片1的热膨胀系数。
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