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佳能株式会社琴谷昇平获国家专利权

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龙图腾网获悉佳能株式会社申请的专利调色剂获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114488726B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111226265.X,技术领域涉及:G03G9/08;该发明授权调色剂是由琴谷昇平;见目敬;丰泉悟崇;盐足吉彬;井上真由美设计研发完成,并于2021-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

调色剂在说明书摘要公布了:本发明涉及调色剂。一种调色剂,其包括调色剂颗粒,该调色剂颗粒包含粘结剂树脂,其中调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物,在调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱中,源自有机硅化合物的缩合产物的硅离子的归一化强度为7.00×10‑4以上且3.00×10‑2以下,在特定条件下溅射调色剂颗粒后的硅离子的归一化强度为6.99×10‑4以下,调色剂包括在调色剂颗粒的表面的细颗粒,并且细颗粒具有选自由特定的多元酸金属盐细颗粒、钛酸锶细颗粒、氧化钛细颗粒和氧化铝细颗粒组成的组中的至少一种。

本发明授权调色剂在权利要求书中公布了:1.一种调色剂,其包括调色剂颗粒,所述调色剂颗粒包含粘结剂树脂, 其特征在于,所述调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物, 在所述调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱TOF-SIMS中, 源自所述有机硅化合物的缩合产物的由下式I给出的mz为28的硅离子的归一化强度为7.00×10-4至3.00×10-2; mz为28的硅离子的归一化强度={mz为28的硅离子的离子强度}{mz为0.5至1850的总离子强度}...I, 在以下条件A下通过Ar气体团簇离子束Ar-GCIB溅射所述调色剂颗粒后的通过飞行时间二次离子质谱的mz为28的硅离子的归一化强度为6.99×10-4以下; A加速电压:5kV,电流:6.5nA,光栅尺寸:600×600μm,照射时间:5sec周期,溅射时间:250sec, 所述调色剂包括在所述调色剂颗粒的表面的细颗粒,并且 所述细颗粒具有选自由作为包含Ti和Al元素中的至少一种的化合物与多元酸的反应产物的多元酸金属盐细颗粒、钛酸锶细颗粒、氧化钛细颗粒和氧化铝细颗粒组成的组中的至少一种。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人佳能株式会社,其通讯地址为:日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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