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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利光致抗蚀剂组合物及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114442426B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111102905.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法是由T·马兰戈尼;E·阿卡德;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦;侯希森;李忠奉设计研发完成，并于2021-09-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在说明书摘要公布了：公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：包含具有酸不稳定基团的重复单元的酸敏感聚合物；包含阴离子和阳离子的碘鎓盐，所述碘鎓盐具有式1：其中Z‑是有机阴离子；Ar1是取代或未取代的包含呋喃杂环的C4‑60杂芳基；并且R1是如本文提供的取代或未取代的烃基，其中所述阳离子任选地包含酸不稳定基团，其中Ar1和R1任选地经由单键或一个或多个二价连接基团彼此连接形成环，并且其中所述碘鎓盐任选地通过Ar1或其取代基作为侧基共价键合至聚合物，所述碘鎓盐任选地通过R1或其取代基作为侧基共价键合至聚合物，或者所述碘鎓盐任选地通过Z‑作为侧基共价键合至聚合物；以及溶剂。

本发明授权光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含： 包含具有酸不稳定基团的重复单元的酸敏感聚合物； 包含阴离子和阳离子的碘鎓盐，所述阳离子包括单个碘鎓阳离子，所述碘鎓盐具有式1： 其中， Z-是有机阴离子，其包含选自以下的基团：磺酸根、甲基化物阴离子、磺酰胺阴离子、磺酰亚胺阴离子、氨基磺酸根、酚盐、或羧酸根； Ar1是取代或未取代的包含呋喃杂环的C4-60杂芳基；并且 R1是C1-20烷基、C1-20杂烷基、C3-20环烷基、C2-20杂环烷基、C2-20烯基、C2-20杂烯基、C6-30芳基、C4-30杂芳基、C7-20芳基烷基、或C4-20杂芳基烷基，其中的每一个是取代或未取代的， 其中所述阳离子任选地包含酸不稳定基团， 其中Ar1和R1任选地经由单键或一个或多个二价连接基团彼此连接形成环，并且 其中所述碘鎓盐任选地通过Ar1或通过其取代基作为侧基共价键合至聚合物，所述碘鎓盐任选地通过R1或通过其取代基作为侧基共价键合至聚合物，或者所述碘鎓盐任选地通过Z-作为侧基共价键合至聚合物；以及 溶剂。

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