京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司蔡璐获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司申请的专利一种显示基板及其制造方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113629079B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111002703.4,技术领域涉及:H10D86/40;该发明授权一种显示基板及其制造方法、显示装置是由蔡璐;张瑞卿;王强;王旭东;金文强;徐国芳;景国栋;田刚;郭强;王旭;徐东;李春波;刘乐;刘静;李子华设计研发完成,并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示基板及其制造方法、显示装置在说明书摘要公布了:本公开提供一种显示基板及其制造方法、显示装置,所述显示基板包括衬底基板及由靠近所述衬底基板一侧向远离所述衬底基板一侧依次设置的源漏金属层、平坦层和电极层,所述源漏金属层至少包括被所述平坦层覆盖的第一源漏金属图案和未被所述平坦层覆盖的第二源漏金属图案,其中所述电极层包括电极图案及遮挡图案,所述电极图案位于所述平坦层之上;所述遮挡图案直接覆盖于至少部分所述第二源漏金属图案之上,并沿着所述第二源漏金属图案的图案边沿设置。本公开实施例的显示基板及其制造方法、显示装置,能够解决源漏金属图案在电极层刻蚀时出现侧面缺陷而导致不良的技术问题。
本发明授权一种显示基板及其制造方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板及由靠近所述衬底基板一侧向远离所述衬底基板一侧依次设置的源漏金属层、平坦层和电极层,所述显示基板包括显示区域和位于所述显示区域外围的外围区域,所述平坦层覆盖所述显示区域且未覆盖所述外围区域,所述外围区域包括封装基底区域和绑定区域, 所述源漏金属层至少包括位于所述显示区域且被所述平坦层覆盖的第一源漏金属图案、及位于未被所述平坦层覆盖的所述外围区域的第二源漏金属图案,其中所述电极层包括电极图案及遮挡图案,所述电极图案位于所述平坦层之上;所述遮挡图案直接覆盖于至少部分所述第二源漏金属图案之上,并沿着所述第二源漏金属图案的图案边沿设置,所述第二源漏金属图案包括:位于所述绑定区域的绑定线路,所述绑定线路包括端子及绑定走线;和,位于所述封装基底区域的封装基底图案,所述封装基底图案包括基底部和位于基底部上的多个开孔; 所述第二源漏金属图案包括由靠近衬底基板一侧至远离衬底基板一侧依次设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层,所述遮挡图案随形覆盖在所述第二源漏金属图案上,所述遮挡图案包括:覆盖在所述第三金属层的位于远离所述衬底基板的一侧表面的第一遮挡区;覆盖所述第二金属层的侧面的第二遮挡区;及,覆盖所述第一金属层的侧面的第三遮挡区,所述第三遮挡区由所述侧面遮挡区的远离所述第一遮挡区的一侧、沿平行所述衬底基板的方向延伸形成;其中 相邻两个端子上的所述遮挡图形之间的间隙e为10μm,同一端子上的所述遮挡图案相对两侧的边缘之间的距离d为12μm,所述第一遮挡区的宽度c为9μm,所述第三遮挡区的宽度a为1.5μm。
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