ASML荷兰有限公司浦凌凌获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利在多带电粒子束检查中根据检查图像的轮廓提取方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115104122B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180014689.1，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权在多带电粒子束检查中根据检查图像的轮廓提取方法是由浦凌凌;方伟设计研发完成，并于2021-01-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本在多带电粒子束检查中根据检查图像的轮廓提取方法在说明书摘要公布了：公开了一种用于在多带电粒子束检查系统中从检查图像提取图案轮廓信息的改进的设备和方法。一种用于从检查图像提取图案轮廓信息的改进方法，包括：根据从带电粒子束检查系统获得的检查图像来标识在检查图像中部分重叠的第一图案和第二图案。该方法还包括：通过从检查图像中去除与第二图案相对应的图像区域来生成第一分离图像。第一分离图像包括第一图案，当去除与第二图案相对应的图像区域时，第一图案的第一部分被去除。该方法还包括：基于与第一图案相对应的第一参考图像，更新第一分离图像以包括表示第一图案的被去除的第一部分的图像数据。
本发明授权在多带电粒子束检查中根据检查图像的轮廓提取方法在权利要求书中公布了：1.一种用于从检查图像提取图案轮廓信息的方法，所述方法包括： 根据从带电粒子束检查系统获得的检查图像，标识在所述检查图像中部分重叠的第一图案和第二图案； 通过从所述检查图像中去除与所述第二图案相对应的图像区域来生成第一分离图像，其中所述第一分离图像包括所述第一图案，当去除与所述第二图案相对应的图像区域时，所述第一图案的第一部分被去除；以及 基于与所述第一图案相对应的第一参考图像，更新所述第一分离图像以包括表示所述第一图案的被去除的所述第一部分的图像数据， 其中标识所述第一图案和所述第二图案包括： 从所述检查图像中提取第一图像补丁，所述第一图像补丁覆盖所述第一图案的部分，其中所述第一图案的所述部分与所述第二图案不重叠； 从所述检查图像中提取第二图像补丁，所述第二图像补丁覆盖所述第二图案的部分，其中所述第二图案的所述部分与所述第一图案不重叠；以及 将所述第一图像补丁与所述第一参考图像相关联，并且将所述第二图像补丁与对应于所述第二图案的第二参考图像相关联。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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