特拉波雷技术有限公司拉谢尔·M·多林获国家专利权
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龙图腾网获悉特拉波雷技术有限公司申请的专利具有大孔隙的均孔介孔不对称嵌段共聚物材料及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111971115B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980025538.9，技术领域涉及：B01D69/02；该发明授权具有大孔隙的均孔介孔不对称嵌段共聚物材料及其制造方法是由拉谢尔·M·多林;顾一北;贾伊拉杰·K·舍特吉;斯宾塞·罗宾斯设计研发完成，并于2019-03-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有大孔隙的均孔介孔不对称嵌段共聚物材料及其制造方法在说明书摘要公布了：介孔均孔不对称材料包含至少一种二嵌段或多嵌段共聚物，其中所述材料具有过渡层，所述过渡层具有至少300nm的厚度和低的大孔隙密度，并且所述材料具有与所述过渡层相邻的子结构，并且所述子结构包括高的大孔隙密度。用于生产具有大孔隙的介孔均孔不对称材料的方法可以包括：将至少一种二嵌段或多嵌段共聚物溶解在如下溶液中以形成聚合物溶液，所述溶液具有一种或更多种溶剂和一种或更多种非溶剂；将聚合物溶液分配到基底或模具上，或者通过口模或模板分配；将至少部分溶剂和或非溶剂从聚合物溶液中除去以形成浓缩的聚合物溶液；以及使浓缩的聚合物溶液暴露于非溶剂，使得至少部分聚合物从浓缩的聚合物溶液中沉淀。
本发明授权具有大孔隙的均孔介孔不对称嵌段共聚物材料及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种介孔均孔不对称材料，包含大孔隙和至少一种二嵌段或多嵌段共聚物，其中： a.所述材料具有过渡层，所述过渡层具有至少300nm的厚度和低的大孔隙密度，其中所述低的大孔隙密度通过所述过渡层的大孔隙与介孔的比率为至多2×10-9来定义； b.所述材料具有与所述过渡层相邻的子结构，并且所述子结构包括1微米至500微米的厚度和高的大孔隙密度，其中所述高的大孔隙密度意指至少106个大孔隙m2，以及所述大孔隙定义为具有大于0.5微米的至少一个特性长度的孔隙；以及 c.所述过渡层的与所述子结构不相交的表面包括介孔均孔表层。
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