浙江中科尚弘离子装备工程有限公司龚再生获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江中科尚弘离子装备工程有限公司申请的专利一种用于晶圆加工的靶盘组件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120261379B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510725325.4,技术领域涉及:H01L21/683;该发明授权一种用于晶圆加工的靶盘组件是由龚再生设计研发完成,并于2025-06-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于晶圆加工的靶盘组件在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于晶圆加工的靶盘组件,包括底座,在底座的上方设有旋转靶盘,旋转靶盘的底部设有旋转轴,在旋转靶盘的顶面设有若干用于放置晶圆的物料槽,晶圆通过设置在物料槽内的固定机构锁紧。固定机构包括外壳体、以及设置在外壳体内的锁紧组件;其中,外壳体的顶部用于放置晶圆,在外壳体内活动设置有基板,在基板上设有若干顶出杆,在基板的中间位置设有一组固定块,固定块之间设有导向杆,移动块设置在导向杆上,且可在第二弹簧的作用下限位,移动块的顶部与传动杆的一端连接,传动杆的另一端延伸至U形开口槽并伸出,在传动杆的另一端端部套设有柔性限位块,移动块的底部由基板中间的开口伸出外壳体。
本发明授权一种用于晶圆加工的靶盘组件在权利要求书中公布了:1.一种用于晶圆加工的靶盘组件,其特征在于,包括底座11,在底座11的上方设有旋转靶盘12,旋转靶盘12的底部设有旋转轴13,在旋转靶盘12的顶面设有若干用于放置晶圆4的物料槽14,晶圆4通过设置在物料槽14内的固定机构5锁紧; 所述固定机构5包括外壳体51、以及设置在外壳体51内的锁紧组件52; 所述外壳体51通过沿顶部外边沿设置的阶梯结构511限位安装在旋转靶盘12的物料槽14内,外壳体51的顶面512用于放置晶圆4,在顶面512上开设有若干顶出孔513,在顶面512的边缘一部分位置设有限位挡板514,在限位挡板514相对侧的顶面512开设有U形开口槽515; 所述锁紧组件52包括活动设置在外壳体51内的基板521,在基板521上设有若干与顶出孔513位置相对应的顶出杆522,在顶出杆522上套设有第一弹簧523,在基板521的中间位置设有一组固定块524,固定块524之间设有导向杆525,移动块526设置在导向杆525上,且可在第二弹簧529的作用下限位,移动块526的顶部与传动杆527的一端连接,传动杆527的另一端延伸至U形开口槽515并伸出,在传动杆527的另一端端部套设有柔性限位块528,移动块526的底部由基板521中间的开口伸出外壳体51。
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