上海芯东来半导体科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉上海芯东来半导体科技有限公司申请的专利移动反射镜的弯曲校正方法、干涉仪测量系统及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120176528B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510639391.X，技术领域涉及：G01B9/02055；该发明授权移动反射镜的弯曲校正方法、干涉仪测量系统及存储介质是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本移动反射镜的弯曲校正方法、干涉仪测量系统及存储介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种移动反射镜的弯曲校正方法、干涉仪测量系统及存储介质，该方法包括：计算所述移动反射镜的各测量点的弯曲差值；从所述弯曲差值中去除倾斜成分；对去除倾斜成分后的所述弯曲差值进行插值处理，生成以预设间隔分布的校正值；将所述校正值补偿至干涉仪测量系统的位移计算结果中。本申请实施例从测量末端的误差上进行纠正，解决了相关技术中数据处理难度高的问题。
本发明授权移动反射镜的弯曲校正方法、干涉仪测量系统及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种移动反射镜的弯曲校正方法，其特征在于，包括： 计算所述移动反射镜的各测量点的弯曲差值，包括： 在第一方向上控制运动台以固定步进距离移动； 在每步进位置读取在第二方向上两测量轴的测量值并计算弯曲差值，所述两测量轴包括第一测量轴和第二测量轴，所述弯曲差值表示所述步进位置中第一测量轴相对于第二测量轴的测量值的增减值； 从所述弯曲差值中去除倾斜成分，包括： 针对所有弯曲差值，连接首末形状点，得到倾斜成分； 在各个形状点中去除所述倾斜成分； 对去除倾斜成分后的所述弯曲差值进行插值处理，生成以预设间隔分布的校正值； 将所述校正值补偿至干涉仪测量系统的位移计算结果中。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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