上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司;北京大学张宁获国家专利权
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龙图腾网获悉上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司;北京大学申请的专利一种光刻胶前体组合物及有关产品、光刻胶图型形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119798526B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411934082.7，技术领域涉及：C08F220/20；该发明授权一种光刻胶前体组合物及有关产品、光刻胶图型形成方法是由张宁;王文芳;房彩琴;董栋;刘忠范设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻胶前体组合物及有关产品、光刻胶图型形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光刻胶前体组合物及有关产品、光刻胶图型形成方法，属于光刻胶技术领域。该光刻胶前体组合物由单体、引发剂和溶剂组成，所述单体由A类单体、B类单体、C类单体和D类单体组成。采用上述单体进行自由基聚合反应，可以形成一种新的光刻胶树脂。由该光刻胶树脂制成的光刻胶具有良好的光固化性能，能够实现更高的光刻分辨率。
本发明授权一种光刻胶前体组合物及有关产品、光刻胶图型形成方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶前体组合物，其特征在于，由单体、引发剂和溶剂组成； 所述单体由A类单体、B类单体、C类单体和D类单体组成； 所述A类单体选自1,1,1,3,3,3-六氟异丙基异丁烯酸酯、甲基丙烯酸三氟乙酯、3,3,4,4,4-五氟正丁基异丁烯酸酯、甲基丙烯酸3,3,3-三氟-2-甲基丙酯中的至少一种； 所述B类单体选自甲基丙烯酸1-甲氧基甲基环戊酯、1-金刚烷-1-基环戊基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸1-异丙基环戊酯中的至少一种； 所述C类单体选自3-羟基-2,2,4,4-四甲基环丁基甲基丙烯酸酯、3,3-二甲基-1-乙基环丁基甲基丙烯酸酯中的至少一种； 所述D类单体2-9-芴甲氧羰基氨基乙基甲基丙烯酸酯； 所述引发剂为自由基型光引发剂； 所述溶剂选自甲乙酮、环戊酮、环己酮中的至少一种。
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