苏州苏大维格科技集团股份有限公司刘晓宁获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州苏大维格科技集团股份有限公司申请的专利具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119148401B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310705884.X，技术领域涉及：G02B30/27；该发明授权具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品是由刘晓宁;杨颖;朱鸣;乔文;魏国军;张国勇;任家安;张瑾;陈林森设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品在说明书摘要公布了：本发明涉及一种具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品。光学成像薄膜包括：透明间隔层，具有相对的两个表面；微聚焦单元阵列层，位于透明间隔层的一个表面，包括若干阵列排布的微聚焦单元；以及微图文层，位于透明间隔层的另一个表面，包括若干阵列排布的微图文单元，若干微图文单元与若干微聚焦单元对应设置；微图文单元的正视图形基于立体实物像和虚拟像获得，从而在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示。本发明的抗复印光学成像薄膜，在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示，因而能够使复印图像无法携带光学成像薄膜全部信息，从而实现抗复印功能。
本发明授权具有抗复印特性的光学成像薄膜及其制备方法和防伪产品在权利要求书中公布了：1.一种具有抗复印特性的光学成像薄膜，其特征在于，所述光学成像薄膜包括： 透明间隔层，所述透明间隔层具有相对的两个表面； 微聚焦单元阵列层，位于所述透明间隔层的一个表面，所述微聚焦单元阵列层包括若干阵列排布的微聚焦单元；以及 微图文层，位于所述透明间隔层的另一个表面，所述微图文层包括若干阵列排布的微图文单元，若干所述微图文单元与若干所述微聚焦单元对应设置； 其中，所述微图文单元的正视图形基于立体实物像和虚拟像获得，从而在特定视角范围内只呈现部分立体实物像，所述立体实物像被虚拟像遮挡的部分不显示。
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