上海科技大学王震获国家专利权
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龙图腾网获悉上海科技大学申请的专利一种异形真空差分结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116582998B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310465402.8，技术领域涉及：H05H7/18；该发明授权一种异形真空差分结构是由王震;王进伟;刘芳设计研发完成，并于2023-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种异形真空差分结构在说明书摘要公布了：本发明涉及一种异形结构真空差分结构，包含：一级微锥形结构差分管与二级微锥形结构差分管之间焊接一级膨胀结构差分腔室，一级微锥形结构差分管内部的微孔结构和二级微锥形结构差分管内部的微孔结构均呈现锥形结构，一级膨胀结构差分腔室内的体积呈现膨胀结构，二级微锥形结构差分管下游端与二级差分腔室上端面焊接，并且保持一级微锥形结构差分管内部开孔，一级膨胀结构差分腔室上下游端面开孔，二级微锥形结构差分管内部开孔，以及二级差分腔室上端面开孔均在同心圆上。本发明可以实现在有限空间内和较短差分轴向距离内的真空度多个量级过渡，并且确保同步光在真空差分结构中的准直精度和余量要求。
本发明授权一种异形真空差分结构在权利要求书中公布了：1.一种异形结构真空差分结构，其特征在于：包含一级微锥形结构差分管、一级膨胀结构差分腔室、二级微锥形结构差分管、二级差分腔室，所述一级微锥形结构差分管与二级微锥形结构差分管之间焊接一级膨胀结构差分腔室，一级微锥形结构差分管内部的微孔结构和二级微锥形结构差分管内部的微孔结构均呈现锥形结构，一级膨胀结构差分腔室内的体积呈现膨胀结构，二级微锥形结构差分管下游端与二级差分腔室上端面焊接，并且确保一级微锥形结构差分管内部开孔，一级膨胀结构差分腔室上下游端面开孔，二级微锥形结构差分管内部开孔以及二级差分腔室上端面开孔均在同心圆上。
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