买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉厦门大学申请的专利一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116068793B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310076613.2，技术领域涉及：G02F1/01；该发明授权一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜及其制备方法是由卜轶坤;杨坚;陈楠;段珍珍;陈炜杰;蔡光师;何泽湘设计研发完成，并于2023-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜，所述薄膜的结构为：HPsLPHs，该薄膜的结构为以L为中心的对称结构，其中，H表示高折射率介质层，P表示相变层，L表示低折射率介质层，每组HP或PH构成等效高折射率单元，每组等效高折射率单元由高折射率介质层H和相变层P堆叠而成，s表示等效高折射率单元重复堆叠次数，s为正整数。本发明还提供了一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜的制备方法，通过相变层发生相变使制备的薄膜在相变前后都能拥有较大色差的结构色。

本发明授权一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种基于相变材料的光子晶体结构色薄膜，其特征在于，所述薄膜的结构为：（HP）sL（PH）s，该薄膜的结构为以L为中心的对称结构，其中，H表示高折射率介质层，P表示相变层，L表示低折射率介质层，每组（HP）或（PH）构成等效高折射率单元，每组等效高折射率单元由高折射率介质层H和相变层P堆叠而成，s表示等效高折射率单元重复堆叠次数，s为正整数； 所述高折射率介质层H为在400nm~780nm范围内折射率大于或等于1.55的材料膜层，采用钛酸镧、非晶硅、氧化铟锡、二氧化钛、五氧化二钽、二氧化铪、二氧化锆、硫化锌或者一氧化硅；所述高折射率介质层H的厚度范围为20-500nm； 所述相变层P采用GSST材料或GST材料，该GSST材料在不同的温度下具有两种不同的晶态，分别为不定型态和结晶态；该GST材料在不同的温度下具有三种不同的晶态，分别为非晶态、亚稳态和结晶态；所述相变层P的厚度范围为5-30nm； 所述低折射率介质层L为在400nm~780nm范围内折射率小于1.55的材料膜层，采用二氧化硅、氟化镁、氟化铈、氟化镧、氟化钠铝、氟化钕、氟化钞、氟化钡、氟化钙或氟化锂；所述低折射率介质层L的厚度范围为20nm~600nm。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人厦门大学，其通讯地址为：361005 福建省厦门市思明南路422号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。