张家港安储科技有限公司孙秀岩获国家专利权
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龙图腾网获悉张家港安储科技有限公司申请的专利一种用于半导体晶圆清洗过程中的清洗液组合物获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115232680B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211003753.9,技术领域涉及:C11D1/62;该发明授权一种用于半导体晶圆清洗过程中的清洗液组合物是由孙秀岩;王倩;张蕾设计研发完成,并于2022-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于半导体晶圆清洗过程中的清洗液组合物在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于半导体晶圆清洗过程中的清洗液组合物,按照总质量百分比100%计,包括以下原料组分:羟胺或羟胺盐的化合物0.1‑40%、有机酸0.1‑10%、季铵碱0.1‑30%、链烷醇胺0‑20%,剩余为超纯水。本发明的清洗液组合物,其通过羟胺或羟胺盐的化合物能够起到部分还原表面吸附的氧化铈从而弱化氧化铈粒子和氧化硅表面的吸附力,而有机酸的添加可以和氧化铈表面的铈离子形成络合键从而打破氧化铈粒子和氧化硅表面的结合以达到去除氧化硅表面吸附的氧化铈纳米粒子,另外该清洗液在使用时处于碱性环境,不会对氧化硅和氮化硅表面造成损伤。
本发明授权一种用于半导体晶圆清洗过程中的清洗液组合物在权利要求书中公布了:1.一种清洗液组合物在半导体晶圆制程中化学机械研磨后去除晶圆表面氧化铈粒子的应用,其特征在于,所述清洗液组合物的原料包括羟胺或羟胺盐的化合物、有机酸、季铵碱、链烷醇胺,所述羟胺或羟胺盐的化合物为羟胺或硫酸羟胺,所述季铵碱为四甲基氢氧化铵或氢氧化胆碱,链烷醇胺为乙醇胺, 当季铵碱采用四甲基氢氧化铵时,所述清洗液组合物按照总质量百分比100%计,包括以下原料组分:四甲基氢氧化铵为10%或22%、硫酸羟胺为5%、葡萄糖酸为1%、乙醇胺为0或5%,剩余为超纯水,13.12≤pH≤14.89; 当季铵碱采用氢氧化胆碱、羟胺或羟胺盐的化合物采用了羟胺时,所述清洗液组合物按照总质量百分比100%计,包括以下原料组分: 氢氧化胆碱为7.5-10.7%、羟胺为1.7-2.0%、有机酸为3.3-5.0%,剩余为超纯水,11.29≤pH≤11.47,其中,所述有机酸选自柠檬酸、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸、邻苯二酚中的任一一种; 当季铵碱采用氢氧化胆碱、羟胺或羟胺盐的化合物采用了硫酸羟胺时,所述清洗液组合物按照总质量百分比100%计,包括以下原料组分: 氢氧化胆碱为9.0-13.0%、硫酸羟胺为1.0-7.5%、乙醇胺为0或5%、葡萄糖酸为1.0%,剩余为超纯水,13.03≤pH≤13.48。
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