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龙图腾网获悉上海核工程研究设计院有限公司申请的专利基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115374613B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210929887.7，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法及系统是由郑征;王梦琪;梅其良;黎辉;彭超;夏春梅;周岩;史涛;高静;李翔;高圣钦;毛兰方设计研发完成，并于2022-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法及系统，涉及辐射防护技术领域，包括：生成初始屏蔽方案，并确定出初始屏蔽方案对应的目标函数值；根据目标函数值将多个初始屏蔽方案按照支配关系排序，产生第一代屏蔽方案，对第一代屏蔽方案进行非支配关系排序，再通过遗传算子产生第二代屏蔽方案；将第一代屏蔽方案和第二代屏蔽方案进行合并排序，得到不同的解集，从各解集中依次选择屏蔽方案到下一代屏蔽方案，更新下一代屏蔽方案对应的目标函数值，直到满足终止条件；根据优化后的屏蔽方案，输出当前辐射屏蔽场景下的屏蔽材料和屏蔽厚度。这样，可以实现剂量率、屏蔽材料的体积等多个目标的同时优化，提高屏蔽方案的优化效率。

本发明授权基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于非支配排序遗传算法的多目标屏蔽优化方法，其特征在于，包括： 根据获取的辐射屏蔽场景中的源项、屏蔽层数以及各层的屏蔽材料、厚度上下限，生成初始屏蔽方案，并确定出初始屏蔽方案对应的目标函数值；其中，所述屏蔽方案包括屏蔽材料和屏蔽厚度，所述目标函数包括剂量率、屏蔽材料的体积和重量； 根据目标函数值将多个所述初始屏蔽方案按照支配关系排序，产生第一代屏蔽方案，对所述第一代屏蔽方案进行非支配关系排序，再通过遗传算子产生第二代屏蔽方案并计算相应的目标函数值；将所述第一代屏蔽方案和第二代屏蔽方案进行合并排序，得到不同的解集，从各解集中依次选择屏蔽方案到下一代屏蔽方案，更新下一代屏蔽方案对应的目标函数值，直到满足终止条件； 其中，对目标函数增加约束条件和惩罚函数如下： 其中，和分别表示目标函数约束下界和上界，表示惩罚函数； 其中，若目标函数小于下界，目标函数增加一个偏移量，该偏移量表示目标函数偏离下界的程度；若目标函数大于上界，目标函数增加一个偏移量，该偏移量表示目标函数偏离上界的程度； 根据优化后的屏蔽方案，输出当前辐射屏蔽场景下的屏蔽材料和屏蔽厚度。

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