深圳市华星光电半导体显示技术有限公司殷志远获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示面板及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115274786B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210794652.1,技术领域涉及:H10K59/38;该发明授权显示面板及其制备方法是由殷志远;请求不公布姓名;史婷设计研发完成,并于2022-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及其制备方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种显示面板及其制备方法,所述显示面板包括:阵列基板;发光结构,设于所述阵列基板的一侧;以及彩膜层,设于所述发光结构远离所述阵列基板的一侧;其中,所述彩膜层包括重叠区以及单色区。本申请的技术效果在于,节省光罩,降低成本,在降低反射率的同时改善显示面板的显示视角。
本发明授权显示面板及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种显示面板,其特征在于,包括: 阵列基板; 发光结构,设于所述阵列基板的一侧;以及 彩膜层,设于所述发光结构远离所述阵列基板的一侧;所述彩膜层包括重叠区以及单色区;所述彩膜层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻,在所述单色区中,所述第三色阻的视角优于所述第二色阻的视角,所述第二色阻的视角优于所述第一色阻的视角;所述重叠区包括第一重叠区、第二重叠区和第三重叠区,在所述第一重叠区中,所述第一色阻位于所述第二色阻远离像素定义层的一侧,在所述第二重叠区中,所述第二色阻位于所述第三色阻远离像素定义层的一侧,在所述第三重叠区中,所述第一色阻位于所述第三色阻远离像素定义层的一侧; 像素定义层,设于所述阵列基板的一侧,所述像素定义层上设有发光区以及非发光区;以及 发光层,设于所述发光区内; 其中,所述彩膜层的所述重叠区与所述像素定义层的所述非发光区相对设置,所述彩膜层的所述单色区与所述像素定义层的所述发光区相对设置。
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