TCL华星光电技术有限公司杨慧获国家专利权
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龙图腾网获悉TCL华星光电技术有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115132814B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210786270.4，技术领域涉及：H10K59/126；该发明授权阵列基板及其制备方法和显示装置是由杨慧;陈亚妮设计研发完成，并于2022-07-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种阵列基板及其制备方法和显示装置，阵列基板至少包括栅极层、栅绝缘层、有源层和挡光层，其中，栅绝缘层和有源层依次设置于栅极层上，栅绝缘层具有与有源层重叠的中央区和围绕中央区的外围区，有源层具有背离栅绝缘层的第一表面，栅绝缘层具有位于中央区的与有源层接触的第三表面，挡光层设置于外围区，且具有背离栅绝缘层的第二表面，其中，第二表面相对于第三表面的高度大于第一表面相对于第三表面的高度，本发明通过在栅绝缘层的外围区增设挡光层，以利用挡光层对入射至外围区的光线进行遮挡，避免了上述光线因在外围区发生漫反射现象而进一步入射至有源层中，从而避免了有源层中因产生光载流子而发生光漏电问题。
本发明授权阵列基板及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板至少包括： 依次设置于栅极层上的栅绝缘层和有源层，所述栅绝缘层具有与所述有源层重叠的中央区和围绕所述中央区的外围区，所述有源层具有背离所述栅绝缘层的第一表面，所述栅绝缘层具有位于所述中央区的与所述有源层接触的第三表面；以及， 挡光层，设置于所述外围区，所述挡光层具有背离所述栅绝缘层的第二表面，其中，所述第二表面相对于所述第三表面的高度大于所述第一表面相对于所述第三表面的高度； 其中，所述栅绝缘层具有位于所述外围区的与所述挡光层接触的第四表面，所述第三表面与所述第四表面在同一个平面内延展，所述有源层具有第一厚度，所述挡光层具有第二厚度，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度； 其中，所述阵列基板还包括源漏极层，所述源漏极层设置于所述有源层上。
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