京东方科技集团股份有限公司王飞获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利转移基板、转移设备及转移方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114628309B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210187775.9，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权转移基板、转移设备及转移方法是由王飞;张笑;谷新;梁轩;赵欣欣设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本转移基板、转移设备及转移方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种转移基板、转移设备及转移方法，转移基板包括基底和设置于基底一侧的变形层，变形层包括至少一个变形单元，变形单元远离基底的侧面在转移微型器件时与微型器件接触；变形单元包括光致变形材料，具有第一状态和第二状态；变形单元处于第一状态相较于第二状态具有与微型器件更大的接触面积；在光照作用下，变形单元自第一状态转换为第二状态。如此设计，变形单元与微型器件的接触面积变小，而接触面积的减小，使得变形单元与微型器件的粘结面积减小，黏力下降，从而使微型器件更为容易地脱离变形单元，完成微型器件转移。因为光辐照变形是一种非接触的、快速的、可控的变形方法，能够实现快速，高效的微型器件转移。
本发明授权转移基板、转移设备及转移方法在权利要求书中公布了：1.一种转移基板，其特征在于，包括基底和设置于所述基底一侧的变形层，所述变形层包括至少一个变形单元，所述变形单元远离所述基底的侧面在转移微型器件时与所述微型器件接触；所述变形单元包括光致变形材料，具有第一状态和第二状态；所述变形单元处于所述第一状态相较于所述第二状态具有与所述微型器件更大的接触面积；在光照作用下，所述变形单元自所述第一状态转换为所述第二状态； 所述基底的一侧设置有支撑层，所述支撑层包括与所述变形单元对应的支撑凸块，所述变形单元设置于所述支撑凸块；处于所述第一状态的所述变形单元在向所述基底的正投影中，所述变形单元投影面积大于所述支撑凸块；所述变形单元在光照作用下，相对于所述支撑凸块向远离所述基底的一侧弯曲； 其中，所述变形单元处于所述第一状态的曲率小于处于所述第二状态的曲率；在所述第二状态时，所述变形单元位于所述支撑凸块外周的部分向远离所述基底的一侧弯曲。
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