西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司王强获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利一种硅片中转装置和硅片中转方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114005774B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111264769.0,技术领域涉及:H01L21/677;该发明授权一种硅片中转装置和硅片中转方法是由王强设计研发完成,并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅片中转装置和硅片中转方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种硅片中转装置和硅片中转方法。硅片中转装置包括:水槽组件,用于容纳待中转的硅片;传输组件;传感器,传感器用于检测水槽组件是否位于第一区域、第二区域、第三区域和第四区域中的任一处;上料组件,对应第一区域设置,配置为在传感器检测到水槽组件位于第一区域时,向水槽组件内移入硅片;机械手,对应第二区域设置,配置为在传感器检测到水槽组件位于第二区域时,移出水槽组件中的硅片;排水组件,对应第三区域设置,配置为在传感器检测到水槽组件位于第三区域时,控制水槽组件排水;清洗组件,对应第四区域设置,配置为在传感器检测到水槽组件位于第四区域时,清洗水槽组件。本发明提高了硅片中转的便利性。
本发明授权一种硅片中转装置和硅片中转方法在权利要求书中公布了:1.一种硅片中转装置,其特征在于,包括: 水槽组件,用于容纳待中转的硅片; 传输组件,所述传输组件由第一区域依次经由第二区域和第三区域延伸至第四区域,所述传输组件用于传输所述水槽组件沿所述第一区域、所述第二区域、所述第三区域和所述第四区域的方向运动; 多个传感器,沿所述传输组件的延伸方向设置,所述传感器用于检测所述水槽组件是否位于所述第一区域、所述第二区域、所述第三区域和所述第四区域中的任一处; 上料组件,对应所述第一区域设置,配置为在所述传感器检测到所述水槽组件位于所述第一区域时,向所述水槽组件内移入硅片; 机械手,对应所述第二区域设置,配置为在所述传感器检测到所述水槽组件位于所述第二区域时,移出所述水槽组件中的硅片; 排水组件,对应所述第三区域设置,配置为在所述传感器检测到所述水槽组件位于所述第三区域时,控制所述水槽组件排水; 清洗组件,对应所述第四区域设置,配置为在所述传感器检测到所述水槽组件位于所述第四区域时,清洗所述水槽组件; 所述水槽组件包括: 水槽基座,与所述传输组件匹配,以在所述传输组件的传输下移动; 水槽本体,设置于所述水槽基座上,所述水槽本体上设置有排水口和进气口; 硅片卡夹,活动容纳于所述水槽本体内,所述硅片卡夹用于固定位于所述水槽本体内的硅片。
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