日月光半导体制造股份有限公司叶佑宏获国家专利权
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龙图腾网获悉日月光半导体制造股份有限公司申请的专利吸盘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113903700B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111107246.5，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权吸盘装置是由叶佑宏;吕秉修;卢昱霖;黄泰源设计研发完成，并于2021-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本吸盘装置在说明书摘要公布了：本公开涉及一种吸盘装置。该装置包括：外框，具有第一表面；吸附部件，设置于第一表面，吸附部件包括复数个呈同心圆设置的圆形沟槽和两个贯穿每一圆形沟槽的直线沟槽，其中，两个直线沟槽交叉设置并夹设有一锐角。通过将贯穿每个每一圆形沟槽的两个直角沟槽交叉设置并夹设有一锐角，有利于负压气流形成，以减少真空建立失败的情况发生。
本发明授权吸盘装置在权利要求书中公布了：1.一种吸盘装置，包括： 外框，具有第一表面，所述外框的长度与当前机台的尺寸相匹配； 吸附部件，设置于所述第一表面，所述吸附部件包括复数个呈同心圆设置的圆形沟槽和两个贯穿每一圆形沟槽的直线沟槽，其中，两个直线沟槽交叉设置并夹设有一锐角； 所述吸附部件设置有定位结构，所述定位结构包括与圆形沟槽同圆心设置的定位平面和设置于所述定位平面的复数个定位凹槽，所述复数个圆形沟槽的顶端与所述定位平面基本共面； 所述定位平面用于限制基板与所述吸附部件保持平面对接，以使所述基板被平行吸附于所述吸附部件上，所述定位凹槽用于限制所述基板与所述吸附部件的相对位置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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