株式会社国际电气菊池俊之获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115132627B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111090359.9，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质是由菊池俊之;大桥直史设计研发完成，并于2021-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质在说明书摘要公布了：本发明提供一种处理效率高的技术，涉及基板处理装置、半导体装置的制造方法以及程序。本发明提供的技术，具有：反应器，其能够对基板进行多种处理；输送室，其与多个所述反应器邻接；输送机器人，其被设置于所述输送室内，能够向各个所述反应器输送基板；存储部，其记录与各个所述处理对应的类别信息和与各个所述类别信息对应的处理时间信息；计算部，其计算与所述处理时间信息相匹配的时间中的别预定处理的处理时间的比例；处理选择部，其根据所述比例，选择进行所述预定处理的反应器；以及处理设定部，其设定为能够在所选择的所述反应器中进行所述预定处理。
本发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质在权利要求书中公布了：1.一种半导体装置的制造方法，其特征在于， 所述半导体装置的制造方法具有： 将各个反应器中的处理的处理历史记录记录于存储部的工序； 接收与基板的处理对应的类别信息的工序； 从存储部读出所述类别信息和与各个所述类别信息对应的处理时间信息的工序； 计算与所述处理时间信息相匹配的时间中的预定处理的处理时间的比例的工序； 参照所述比例和所述反应器的处理历史记录信息，以使所述反应器中的所述处理历史记录均匀化的方式选择进行所述预定处理的反应器的工序； 设定为能够在所选择的所述反应器中进行所述预定处理的工序； 向所述反应器输送与所述类别信息对应的基板的工序；以及 在所述反应器中进行与所述类别信息对应的处理的工序。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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