ASML荷兰有限公司G·因庞特获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利检测辐射束的光刻设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114450636B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080067173.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权检测辐射束的光刻设备和方法是由G·因庞特;W·J·恩格伦;N·W·M·普兰茨设计研发完成，并于2020-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本检测辐射束的光刻设备和方法在说明书摘要公布了：一种被配置为保持衬底的衬底台，包括：多个传感器元件，被配置为检测来自投影系统的辐射束，辐射束形成在衬底水平具有细长形状的照射区域，细长形状具有长边缘和短边缘并且限定纵向方向和垂直于纵向方向的横向方向，传感器元件沿着纵向方向布置，其中多个传感器元件被布置为在横向方向上与细长形状的长边缘中的一个相距不同距离。
本发明授权检测辐射束的光刻设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种衬底台，被配置为保持衬底，所述衬底台包括： 多个传感器元件，被配置为检测来自投影系统的辐射束，所述辐射束形成在衬底水平处具有细长形状的照射区域，所述细长形状具有长边缘和短边缘，并且限定纵向方向和垂直于所述纵向方向的横向方向，所述传感器元件沿着所述纵向方向布置， 其中所述多个所述传感器元件被布置为在所述横向方向上与所述细长形状的所述长边缘中的一个长边缘相距不同距离； 其中所述传感器元件中的至少一个在所述横向方向上从所述细长形状的所述长边缘中的所述一个长边缘朝向第一侧偏移，并且所述传感器元件中的至少一个在所述横向方向上从所述细长形状的所述长边缘中的所述一个长边缘朝向第二侧偏移，所述第二侧和所述第一侧是所述长边缘中的所述一个长边缘的相对侧。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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