应用材料公司安德烈·P·拉邦特获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利形成变深度装置结构的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113874983B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080037381.4，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权形成变深度装置结构的方法是由安德烈·P·拉邦特;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森设计研发完成，并于2020-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成变深度装置结构的方法在说明书摘要公布了：本案公开了一种用于形成装置结构的方法。形成装置结构的方法包括使用循环蚀刻处理技术在装置材料层中形成变深度结构。在变深度结构中形成多个装置结构以在其中限定垂直或倾斜的装置结构。使用蚀刻处理形成所述变深度结构以及垂直或倾斜的装置结构。
本发明授权形成变深度装置结构的方法在权利要求书中公布了：1.一种方法，包括： 在装置材料上形成灰色调抗蚀剂，形成灰色调抗蚀剂的步骤包括： 在所述装置材料之上设置抗蚀剂材料；和 使所述抗蚀剂材料显影以形成灰色调图案； 执行循环蚀刻处理，所述循环蚀刻处理包括： 使用对所述抗蚀剂材料具有选择性的抗蚀剂蚀刻处理来蚀刻所述灰色调图案的抗蚀剂段； 使用对所述装置材料有选择性的装置图案蚀刻处理来蚀刻所述装置材料的装置段；和 对所述灰色调图案的随后的抗蚀剂段重复所述抗蚀剂蚀刻处理，并蚀刻随后的装置段以形成装置材料图案，所述装置材料图案的顶表面具有梯度； 在所述装置材料上设置硬掩模； 图案化所述硬掩模以暴露所述装置材料的多个段；和 蚀刻所述装置材料的暴露段，以形成具有与所述梯度对应的变化深度的多个装置结构。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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