芯恩(青岛)集成电路有限公司王浩浩获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利基片处理设备及基片处理系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223273215U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422705311.X，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型基片处理设备及基片处理系统是由王浩浩设计研发完成，并于2024-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理设备及基片处理系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种基片处理设备及基片处理系统，属于半导体制造技术领域，基片处理设备包括反应腔和容置腔，所述反应腔用于基片的干法刻蚀，所述容置腔用于容置所述反应腔干法刻蚀完成后的基片，所述容置腔设置有充气口和抽气口，所述充气口用于与充气装置连接，以使得所述容置腔充入清洗气体，所述抽气口用于与抽气装置连接，以使得所述容置腔内的清洗气体被抽走。干法刻蚀完成后的晶圆在容置腔可经充气口充入的清洗气体进行清洗，清洗完成后的气体经抽气口被抽走，该基片处理设备的容置腔在晶圆刻蚀处理完成后能够清洗掉晶圆表面吸附或者残留的反应气体，避免反应气体在晶圆盒内污染未被刻蚀的晶圆。
本实用新型基片处理设备及基片处理系统在权利要求书中公布了：1.一种基片处理设备，其特征在于，包括： 反应腔和容置腔； 所述反应腔用于基片的干法刻蚀，所述容置腔用于容置所述反应腔干法刻蚀完成后的基片，所述容置腔设置有充气口和抽气口，所述充气口用于与充气装置连接，以使得所述容置腔充入清洗气体，所述抽气口用于与抽气装置连接，以使得所述容置腔内的清洗气体被抽走。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司，其通讯地址为：266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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