芯恩(青岛)集成电路有限公司乔怡凡获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利基片处理设备及半导体加工系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223273213U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422569669.4，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型基片处理设备及半导体加工系统是由乔怡凡设计研发完成，并于2024-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理设备及半导体加工系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种基片处理设备及半导体加工系统，属于半导体制造技术领域，基片处理设备包括反应腔以及设置于所述反应腔侧壁上的检测部，所述检测部包括与所述反应腔连接的壳体和设置于所述壳体内的检测窗口，所述检测窗口用于获取反应腔内的光学信号以确定所述反应腔内的刻蚀终点，所述壳体上设置有保护气体入口，所述检测窗口的侧壁与所述壳体之间形成与所述反应腔连通的进气通道，所述进气通道与竖直方向的夹角为30‑60度。该基片处理设备能够防止或者减少刻蚀气体或者刻蚀气体副产物到达检测窗口，检测窗口处保护气体的进气方向与竖直方向的夹角为30‑60度，避免了保护气体直吹刻蚀气体，提高了刻蚀气体的稳定性。
本实用新型基片处理设备及半导体加工系统在权利要求书中公布了：1.一种基片处理设备，其特征在于，包括： 反应腔以及设置于所述反应腔侧壁上的检测部； 所述检测部包括与所述反应腔连接的壳体和设置于所述壳体内的检测窗口，所述检测窗口用于获取反应腔内的光学信号以确定所述反应腔内的刻蚀终点，所述检测窗口的侧壁与所述壳体之间形成与所述反应腔连通的进气通道，所述进气通道与竖直方向的夹角为30-60度，所述壳体上设置有保护气体入口，用于将保护气体引入所述进气通道。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司，其通讯地址为：266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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