深圳泰德半导体装备有限公司罗君获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳泰德半导体装备有限公司申请的专利循环上料装置和等离子清洗设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223267674U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422531618.2，技术领域涉及：B65G35/00；该实用新型循环上料装置和等离子清洗设备是由罗君;叶贤斌;李文强;杨建新;邱晓东;朱霆;杨勇;周学慧设计研发完成，并于2024-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本循环上料装置和等离子清洗设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种循环上料装置和等离子清洗设备，涉及等离子技术领域，其中，循环上料装置包括底座、两个上料架以及两个托板，底座设有两个平行且间隔设置的第一滑轨，每一上料架滑动设于一第一滑轨，两上料架能在同一直线方向上靠近或远离，上料架设有导轨，导轨沿垂直底座的方向延伸设置，每一托板滑动设于一导轨，托板设有用以盛装料片的料盒；本实用新型提供的技术方案中，由于两上料架上的托板在垂直向呈错位设置，因此不会发生干涉碰撞，通过两个上料架上的两个托板在上料位和取料位之间交替流转，从而提高了上料效率，匹配清洗机的清洗速率。
本实用新型循环上料装置和等离子清洗设备在权利要求书中公布了：1.一种循环上料装置，应用于等离子清洗设备中料片的上料，其特征在于，包括： 底座，所述底座设有两个平行且间隔设置的第一滑轨； 两个上料架，每一所述上料架滑动设于一所述第一滑轨，两所述上料架能在同一直线方向上靠近或远离，所述上料架设有导轨，所述导轨沿垂直所述底座的方向延伸设置；以及 两个托板，每一所述托板滑动设于一所述导轨，所述托板设有用以盛装料片的料盒。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳泰德半导体装备有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区高新南七道18号深圳市数字技术园B2栋二层C区；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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