北京晶亦精微科技股份有限公司史霄获国家专利权
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龙图腾网获悉北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利抛光清洗设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223273223U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422518249.3,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型抛光清洗设备是由史霄;尹影;李伟;李婷设计研发完成,并于2024-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光清洗设备在说明书摘要公布了:本实用新型涉及半导体加工技术领域,公开了一种抛光清洗设备,以解决抛光后清洗过程中的晶圆在两个节点之间传输转移的过程中其表面的局部干燥区域会降低清洗效果的问题。该抛光清洗设备包括冲刷模块、喷头、冲洗模块以及转移模块。冲刷模块用于冲刷晶圆,喷头至少安装于冲刷模块处,冲洗模块用于冲洗晶圆。转移模块用于将晶圆由冲刷模块移动至冲洗模块处。其中,喷头用于向晶圆喷淋第一清洗液,以使晶圆由冲刷模块移动至冲洗模块的过程中,晶圆的表面被第一清洗液的液膜完整覆盖。本申请提供的抛光清洗设备能够提高晶圆的清洗效果。
本实用新型抛光清洗设备在权利要求书中公布了:1.一种抛光清洗设备,其特征在于,包括: 冲刷模块,用于冲刷晶圆; 喷头,至少安装于所述冲刷模块处; 冲洗模块,用于冲洗所述晶圆; 以及转移模块,所述转移模块用于将所述晶圆由所述冲刷模块移动至所述冲洗模块处; 其中,所述喷头用于向所述晶圆喷淋第一清洗液,以使所述晶圆由所述冲刷模块移动至所述冲洗模块的过程中,所述晶圆的表面被所述第一清洗液的液膜完整覆盖。
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