中电科技德清华莹电子有限公司李勇获国家专利权
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龙图腾网获悉中电科技德清华莹电子有限公司申请的专利一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223274087U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422455027.1，技术领域涉及：H03H9/17；该实用新型一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置是由李勇;张敖宇;王志超;季玉平;肖功亚;梁红艳;朱卫俊;施旭霞;钱广设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置，属于通信电子器件技术领域，包括压电基底和激励电极，所述激励电极置于压电基底上表面，所述压电基底包括复合衬底和压电薄膜，所述激励电极至少包括叉指换能器和汇流条，所述压电薄膜表面设有刻蚀窗口，所述刻蚀窗口包括T型刻蚀窗口和L型刻蚀窗口，分别构成T型结构弹性波装置和L型结构弹性波装置。刻蚀窗口通过匹配界面间声阻抗、优化电场分布和制造反射边界等方案实现了杂散模式的抑制，并且通过控制刻蚀深度能够调整目标模式的谐振频段，适用于多类型声波器件，尤其对于高性能滤波器的低插损、小纹波以及大带宽需求。
本实用新型一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置在权利要求书中公布了：1.一种可抑制杂散模式且具有调谐特性的弹性波装置，包括压电基底和激励电极，其特征在于：所述激励电极置于压电基底上表面，所述压电基底包括复合衬底1和压电薄膜2，所述激励电极至少包括叉指换能器31和汇流条32，所述压电薄膜2表面设有刻蚀窗口，所述刻蚀窗口包括T型刻蚀窗口41和L型刻蚀窗口42。
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