中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司宋宏浩获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利半导体设备的清洁装置和半导体设备系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223264464U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421958562.2，技术领域涉及：B08B9/36；该实用新型半导体设备的清洁装置和半导体设备系统是由宋宏浩;李勇刚;石春来;王高杰;李璟轩设计研发完成，并于2024-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体设备的清洁装置和半导体设备系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种半导体设备的清洁装置和半导体设备系统，该清洁装置包括本体部、过滤装置、真空发生装置、管道和毛刷部；本体部的底座包括用于半导体设备的清洁通道，清洁通道通过清洁进气口连接管道；过滤装置的一端口与清洁通道通过管道连接，过滤装置的另一端口与真空发生装置的吸气口通过管道连接，真空发生装置的出气口适于与本体部的外部连通；毛刷部位于底座下方，且毛刷部能够跟随本体部移动，以带动半导体设备上的被清洁物体进入清洁通道，并通过清洁进气口进入过滤装置。本实用新型在改善半导体生产环境的同时，提高了半导体设备的清洁效率且节省了人力成本。
本实用新型半导体设备的清洁装置和半导体设备系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体设备的清洁装置，其特征在于，包括本体部、过滤装置、真空发生装置、管道和毛刷部； 所述本体部的底座包括用于半导体设备的清洁通道，所述清洁通道通过清洁进气口连接所述管道； 所述过滤装置的一端口与所述清洁通道通过所述管道连接，所述过滤装置的另一端口与所述真空发生装置的吸气口通过所述管道连接，所述真空发生装置的出气口适于与所述本体部的外部连通； 所述毛刷部位于所述底座下方，且所述毛刷部能够跟随所述本体部移动，以带动所述半导体设备上的被清洁物体进入所述清洁通道，并通过所述清洁进气口进入所述过滤装置。
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